ELIPSE Integra nízkoprofilová maska s výměnnými filtry A1P3

GVS Filter Technology

Celoobličejová filtrační maska pro kombinaci plyn & prach ELIPSE Integra A1P3 . Kombinuje maximální komfort spolu s minimálními nároky na údržbu. Maska je velmi oblíbená o profesionálů pro její snadné použití, dobře se snáší i při celodenním nošení. Provozně nejlevnější řešení pro ochranu proti částicím.Filtr třídy A1 slouží k zachycení částic organických látek s bodem varu nad 65oC. Určeno pro lakovny, práce s organickými substancemi, organickými rozpouštědly např. cyklohexan, etanol, butyl alkohol, propylmetanol atd. a v prostředí s dostatečným obsahem kyslíku nad 19%. Částicový filtr třídy P3 zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm.
Účinnost:P3 >99,95 % pro částice o velikosti 0,3 μmPři 1000 ppm: A1 >70 minut cyklohexan (C6H12)Schváleno dle: EN140: 1988, EN143 2000/A1 P3 RD, EN405: 2001.Částicový filtr P3 je vyroben ze speciálního média HESPA (High Efficiency Synthetic Particulate Airfilter) a umožňuje záchyt částic hexavalentního (šestimocného) chromu a částic manganu při práci s nerezavějícícmi ocelemi, oxidů zinku při práci s pokovenými výrobky, částic hliníku a výparů olova, s filtrem proti nežádoucím pachům. Nyní s čistícím ubrouskem a ochrannou fólií zorníku zdarma.

Cena včetně filtrů.
Hmotnost 324 g
Možno sterilizovat.
Tabulka náhradních dílů
Výběr velikosti masky
Cena včetně filtrů.

Více informací o produktu